8.1. Определение энергии связи прямого связывания пластин кремния методом генерации трещины между поверхностями сращивания
Поверхностная энергия связи – важный параметр, характеризующий энергию, требуемую для разделения связанных пластин кремния (см., например, [1–37]). Обычно она измеряется методом генерации (вскрытия) трещины между поверхностями сращивания. Впервые этот метод предложен в [1] и развит далее в [2], где рассматриваются его особенности при прямом соединении пластин кремния с использованием химической сборки поверхности методом молекулярного наслаивания [3].
Для того, чтобы измерить поверхностную энергию связи, необходимо вставить между двумя поверхностями сращивания лезвие толщиной y (рис.8.1). Трещина генерируется и распространяется на расстояние L.
Рис.8.1. Схема измерения поверхностной энергии связи для случая равных толщин пластин и модулей упругости [2]
Величина L определяется балансом между упругой и поверхностной энергиями. Формула, выведенная на основе этого баланса энергий, для поверхностной энергии имеет вид [1,2]:
, (8.1)
где Е – модуль Юнга, а d – толщина пластины.
Достоинством метода вскрытия трещины являются его простота и быстрота процесса измерения. К недостаткам следует отнести высокую погрешность измерения (/ 0,2) и ограниченность применения только к пластинам, сращенным при 900 С. Т.к. вместо образования трещины может наблюдаться слом одной из пластин из-за высокого значения поверхностной энергии связи. Кроме того, установлено [2], что величина L возрастает значительно в присутствии паров воды (за время порядка 1 мин). Таким образом, величина (а следовательно, и фронт трещины) в общем случае зависит от окружающей среды, давления, времени, плотности SiOH-групп и температуры отжига.
Для понимания существа проблемы вначале опишем рассмотренные в работе [2] экспериментальные исследования зависимостей развития фронта трещины от перечисленных выше факторов. Для исследований использовались пластины кремния толщиной 525 25 мкм с ориентацией (100), сопротивлением от 25 до 45 Ом, выращенные по методу Чохральского. Перед процессом прямого соединения (сращивания) пластины очищались посредством промывки деионизованной водой. Все пары пластин соединялись при комнатной температуре. Принципиальная схема экспериментальной установки, используемой для определения поверхностной энергии, приведена на рис.8.2 [2]. Эта установка позволяет проводить наблюдение процесса сращивания пластин как при нормальном атмосферном давлении и нормальных условиях (воздух), так и при пониженных давлениях и контролируемой по составу газов атмосфере. Для создания пониженного (Р = 0,2 Па) давления использовался стандартный вакуумный насос. Для вклинивания бритвенного лезвия в промежуток между пластинами использовался специальный держатель, не нарушающий условия вакуума.
Рис.8.2. Схематичное представление экспериментальной установки: 1 – под-ложка; 2 – толкатель; 3 – лезвие бритвы; 4 – подложкодержатель; 5 – вакуумный насос
Для исследования несвязанного и связанного пространств между пластинами использовались инфракрасная система и соответствующая видеоаппаратура.
После связывания пары пластин отжигались при различных температурах, за исключением одной пары, которая использовалась для наблюдения связывания при комнатной температуре. Измерялись длины трещин между связанными пластинами для неотожженной пары и для пар отожженных, при температурах 100, 200, 400, 700 и 900 С за время в промежутке от 1 до 20 ч. Длины трещин наблюдались как функции времени. Все измерения проводились при комнатной температуре. Развития длин трещин наблюдались для трех различных значений длин. Установлено, что зависимость длин трещин от времени определяется предыдущим отжигом исследованных пар пластин.
Следует отметить результаты для различных температурных интервалов. Для пластин без отжига и отожженных при 100 С (рис.8.3) [2] уменьшается незначительно (до 90 и 83 % первоначальной величины соответственно) за время t 300 с. В противоположность этому возрастает со временем для отожженных связанных пластин в температурном интервале от 200 до 900 С. Вычисленная поверхностная энергия после 300 с наблюдения составляет 30 – 40 % от ее первоначальной величины при t = 0.
Рис.8.3. Зависимость поверхностной энергии от времени распространения трещин для пары пластин кремния: 1 – без стадии отжига; 2 – отожженных при 100 С в течение 20 ч; 3 – отожженных при 400 С в течение 20 ч; 4 – отожженных при 900 С в течение 1 ч.
Рис.8.4 [2] иллюстрирует длины трещин для отожженных пар пластин при 400 С для трех различных времен от момента вклинивания лезвия: непосредственно в момент вклинивания, после 30 и 300 с. Эти результаты могут быть объяснены с допуском, что реакция между открытыми поверхностями и парами воды в атмосфере приводит к сильному возрастанию длины трещины L со временем для пластин, отожженных в интервале от 200 до 900 С.
Для проверки этого предположения было исследовано поведение длин трещин со временем при низких давлениях, когда концентрация паров воды намного ниже, чем при атмосферном давлении. Нижний черный фон на рисунке – это само лезвие, затемненный фон в середине – область несвязанных поверхностей пластин, обязанных образованию трещины, а верхний наиболее светлый фон – область связанных поверхностей.
Рис.8.4. Три стадии распространения длины трещины для отожженных пар пластин в течение 20 ч при 400 С: в момент вклинивания лезвия бритвы спустя 30 и 300 с
Результаты этих экспериментов представлены на рис.8.5 [2]. Увеличение длины трещины L и связанное с этим уменьшение эффективной поверхностной энергии в вакууме со временем намного меньше, чем на воздухе. При давлении 10 Па не наблюдалось изменения длины трещины в первые 30 с, а при давлении 20 Па – в первые 20 с.
Рис.8.5. Поверхностная энергия для случаев нормальной гидрофильной (HL) очистки (1), гидрофильной RCA-очистки (2) и TMOS-обработки (3) связанных Si/Si пар пластин как функция времени от начального момента вклинивания лезвия бритвы (при относительной влажности 32 %). Связанные пластины обработаны при 400 С в течение 20 ч
Для того чтобы получить более полную информацию о механизме, который определяет поведение распространения трещины после вклинивания лезвия, сравнивались гидрофильные связанные пластины кремния с различной плотностью SiOH-групп на их поверхности. Число ОН-групп на поверхности кремния по сравнению с обычной гидрофильной поверхностью (обработка парами воды) возрастает как при RCA-очистке, так и при обработке тетраметаоксисиланом (TMOS). Обработанные связанные пары пластин имеют намного большие начальные значения поверхностной энергии, чем пары пластин с обычной гидрофильной поверхностью, что объясняется обязаны более высокой плотностью ОН-групп [2].
Реакция между оборванными связями и проникновение молекул воды из окружающей атмосферы в целом определяют процесс распространения трещин. Процесс адсорбции воды уменьшает поверхностную энергию и, следовательно, приводит к наблюдаемому увеличению длин трещин.
Результаты исследований могут быть объяснены в рамках модели сращивания, основанной на возможности существования различной плотности ОН-групп на поверхности сращиваемых пластин с использованием химической сборки поверхности методом молекулярного наслаивания [3] (см.гл.4).
Согласно этой модели, сильное уменьшение со временем эффективной поверхностной энергии связи для связанных пластин, отожженных в интервале от 200 до 900 С, может быть объяснено предположением, что связи Si(1) – Si(2) обрываются при контакте с парами воды окружающей атмосферы.
Эффективная поверхностная энергия при t = 0 после вскрытия поверхности раздела определяется как
= Es(0) – Ei(0) , (8.2)
где Es(0) – энергия поверхности трещины при t = 0, Ei(0) – энергия поверхности раздела.
Процедура вскрытия трещины заключается в механическом разрыве связей Si(1) – Si(2), которые образуются по реакции SiOH + HO–Si Si–O–Si + H2O в процессе нагревания связанных пластин. После вскрытия поверхности раздела появляются уже две поверхности, где вновь генерируются Si–O группы и оборванные связи, не покрытые молекулами воды. Немедленно после вклинивания лезвия происходит адсорбция паров воды, которая в состоянии уменьшить энергии Si–O групп и оборванных связей кремния. Обязанная этому процессу эффективная поверхностная энергия изменяется как
. (8.3)
Здесь 0 – поверхностная энергия при t = 0, а Es – различие между энергией поверхности покрытой парами воды и энергией поверхности, свободной от паров воды.
Различие энергий (t) и вследствие этого увеличение длины трещины зависят от концентрации Si(1)–O–Si(2) групп на поверхности раздела сращиваемых пластин. Допускается, что изменение поверхностной энергии в единицах длины трещины определяется динамическим равновесием между упругой и поверхностной энергиями. Временная зависимость процесса адсоpбции для постоянной концентрации паров дается приближенной формулой
, (8.4)
где CSiO представляет концентрацию Si – O групп и оборванных связей на поверхности, а константа скорости k химической реакции псевдопервого порядка включает в свой состав концентрацию паров воды .
Предположим, что добавочная поверхностная энергия, обусловленная процессом образования трещины, пропорциональна числу возникающих Si – O групп на единице поверхности. Исходя из этого предположения и уравнения (8.5), можем записать временную зависимость поверхностной энергии в виде
, (8.5)
где ∞ – равновесная поверхностная энергия при t = 0. Константа скорости может быть определена из наклона линейного графика ln[(t) – ∞] (см. рис.8.6 ) как функции времени t, согласно уравнению (8.5):
. (8.6)
Константа скорости k заключена в пределах от 5,9 до 6,110-2 с-1 при атмосферном давлении Р0, равна 4,610-2 с-1 при Р = 10 Па и 3,010-2 с-1 при Р = 0,2 Па [2], это соответствует определенной зависимости k от влажности воздуха, что и ожидалось, так как
, (8.7)
т.е. k пропорциональна концентрации паров воды в атмосфере. Здесь k0 является "истинной" константой скорости реакции
Si–OH + HO–Si Si–O–Si + H2O.
Рис.8.6. Зависимость ln[(t)–∞] от времени распада t (распространения трещины) или расхождения связанных пластин кремния, отожженных при 400 С в течение 20 ч. Наклоны кривых соответствуют константе скорости k (верх) – RCA-очищенные пластины и TMOS-обработанные пластины при нормальных условиях на воздухе и (низ) – RCA-очищенные пластины при различных внешних давлениях
В противоположность этому при низких давлениях скорость процесса ограничивается диффузией молекул воды к концу трещины.
Итак, показано, что трещина, генерируемая вклиниванием лезвия в поверхность раздела связанных пластин кремния, распространяется благодаря адсорбции молекул воды перед тем, как достигает постоянной величины. Этот эффект приводит к зависимости измеряемой поверхностной энергии от промежутка времени между моментом вклинивания лезвия и моментом измерения длины трещины. Наблюдается сильное влияние окружающей среды на поверхностную энергию связанных пластин, отожженных в интервале температур от 200 до 900 С. Отсюда следует, что метод генерации трещины может давать воспроизводимые результаты, если контролировать условия процесса измерения. Для того, чтобы избежать быстрого увеличения длины трещины, необходимо проводить измерения поверхностной энергии в условиях вакуума.
- Введение
- 1. Основы молекулярно- кинетической теории (мкт).
- 1.1 Количественное выражение элементов системы.
- 1.2 Мкт газов.
- 1.3 Изопроцессы
- 1.4 Закон Авагадро.
- 1.5 Закон Дальтона.
- 1.6 Вероятный характер скорости хаотического движения.
- 1.7 Реальные газы
- 2 Термодинамика
- 2.1 Основные понятия и определения термодинамики.
- 2.2 Понятие о тд системах.
- 2.3 Законы начала термодинамики. Их использование.
- 2.4 Термохимия. Использование первого закона тд.
- 2.5 Закон Гесса.
- 2.6 Теплота образования
- 2.7. Теплота растворения
- 2.8 Теплота нейтрализации
- 2.9 Зависимость тепловых эффектов от температуры.
- 3 Второй закон термодинамики
- 3.1 Обратимые и необратимые процессы.
- 3.2 Характеристические функции тд систем.
- 3.3 Направление протекания процессов.
- 3.4 Химический потенциал
- 4.1 Закон действия масс. Константа равновесия.
- 4.2 Правило фаз
- 4.3 Общие представления о диаграммах состояния.
- 4.4 Однокомпонентные системы
- 4.5 Двухкомпонентные системы
- 4.6 Основные виды диаграмм состояния двухкомпонентных систем.
- 4.7 Термический анализ.
- 4.8 Фазовые переходы
- 5 Закон Рауля.
- 6 Физико-химические особенности процессов подготовки подложек при получении эс и микроэлектронных изделий
- 6.1 Поверхностные явления при изготовлении ис, эс
- 6.2. Технология очистки подложек для производства микроэлектронных изделий
- 6.2.1. Важность снижения уровня загрязнений
- 6.2.2. Классификация загрязнений
- 6.2.3. Источники загрязнений
- 6.3. Влияние загрязнений на характеристики микроэлектронных изделий
- 6.3.1. Механические загрязнения
- 6.3.2. Металлические загрязнения
- 6.3.3. Микронеровности поверхности
- 6.3.4. Кристаллические дефекты
- 6.4. Механические загрязнения на поверхности полупроводниковых пластин
- 6.4.1. Адгезия механических частиц на поверхность полупроводниковых пластин
- 6.4.2. Удаление загрязнений с поверхности пластин в процессах химической обработки
- 6.4.3. Очистка поверхности подложек в перекисно-аммиачном растворе
- 6.5. Методы исследования состояния и характеристик поверхности подложек
- 6.5.1. Методы анализа частиц на поверхности пластин
- 6.5.2. Методы анализа органических загрязнений на поверхности пластин
- 6.5.3. Методы анализа металлических загрязнений на поверхности пластин
- 6.5.4. Методы исследования рельефа поверхности подложек
- 6.6. Технологические процессы очистки поверхности полупроводниковых пластин
- 6.6.1. "Жидкостная" химическая обработка
- 6.6.2. Методы проведения "жидкостной" химической обработки
- 6.6.3. "Сухая" химическая обработка
- 6.7. Проблемы очистки поверхности полупроводниковых пластин
- 6.7.1. Влияние химической обработки на шероховатость поверхности Si пластин
- 6.7.2. Проблемы нежелательного формирования слоев оксида на поверхности кремниевых пластин
- 6.7.3. Органические загрязнения на поверхности полупроводниковых пластин
- 7. Физико-химические аспекты получения многослойных структур
- 7.1. Имплантация ионов водорода в кремниевые пластины
- 7.2. Особенности технологии прямого сращивания подложек
- 7.3. Сращивание пластин, покрытых SiO2
- 7.4. Состояние сращенных пластин
- 7.5. Плоскостность пластин
- 7.6. Утончение сращенных пластин
- 7.7. Микродефекты сращенных структур
- 7.8. Радиационные свойства многослойных структур
- 7.9. Движение и залечивание пор на границе сращивания стандартных пластин кремния
- 7.9.1. Скорость движения пор, связанных с диффузионными потоками в объеме матрицы, в поле температурного градиента
- 7.9.2. Скорость перемещения пор за счет диффузии атомов на ее поверхности в поле температурного градиента
- 7.9.3. Скорость перемещения пор за счет диффузии атомов в объеме в поле температурного градиента
- 7.9.4. Скорость движения пор в неоднородном поле напряжений при разных механизмах перемещения
- 7.9.5. Диффузионное движение пор вблизи границы кристалла, обусловленное поверхностной диффузией
- 7.9.6. Диффузионное движение пор под действием сил со стороны дислокаций
- 7.9.7. Рекристаллизация, спекание и залечивание пор
- 7.10. Пористый кремний в технологии прямого соединения
- 7.10.1. Теория и экспериментальные исследования заращивания пористых слоев
- 7.10.2 Осаждение слоев кремния на стенках пор и капилляров из парогазовых смесей
- 8. Исследование физико-химических свойств многослойных структур
- 8.1. Определение энергии связи прямого связывания пластин кремния методом генерации трещины между поверхностями сращивания
- 8.2. Исследование многослойных структур и материалов, используемых в процессе их производства эс, методами позитронной аннигиляционной спектроскопии
- 8.2.1. Сущность и особенности методов позитронной аннигиляционной спектроскопии
- 8.2.2. Теория метода ураф и результаты исследований
- 8.2.3. Определение концентрации электронов np в зоне проводимости металлов
- 8.2.4. Исследование полупроводников методом пас
- 8.3. Исследование поверхности пластин
- 8.3.1. Метод масс-спектрометрического исследования процесса термодесорбции с поверхности кремниевых пластин
- 8.3.2. Измерения контактной разности потенциалов подложек
- 8.3.3. Влияние адсорбции на электронные свойства поверхности твердых тел
- Список литературы к главе 8