Глава 2. Полимеры в микроэлектронике. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 44

2.1. Полимерные резисты. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . -

2.1.1. Процессы микролитографии, основанные на

позитивных резистах. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 52

2.1.1.1. Позитивные резисты на основе феноло-

формальдегидных смол. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . -

2.1.1.2. Позитивные резисты на основе фотодеградируемых полимеров . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 54

2.1.1.3. Позитивные резисты, основанные на принципе

химического усиления изображения . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 57

2.1.2. Негативные резисты . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 64

2.2. Использование полимеров в других разделах

микроэлектроники . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 68